電気抵抗を測り、半導体ウェハの表面と内部の結晶品質を調べる

東北大学金属材料研究所の研究成果を基にしたHS-CMR法で、半導体ウェハの表面・内部の結晶品質を電気的に評価する技術。

株式会社パンソリューションテクノロジーズ 東北大学発 / 東京都 千代田区 / 2017年設立
研究発の技術 半導体計測 ウェハ品質評価 四探針抵抗率測定 結晶欠陥評価 太陽電池 パワー半導体
2年以上、新しい発信を確認できず 公式ニュースは2024年8月の事務所移転以降更新がなく、官民ファンドの報告にも2021年時点で売上・事業進捗がなかったとあるため、直近の活動を確認できない。
実用化の段階
研究実証販売
大学は2017年に測定装置の実用化・製造販売を公表し、会社は現在も装置製品と受託測定サービスを案内している。
3製品
1提携・顧客
0特許
2出資者

しくみ

解こうとしている課題

従来の品質評価では、結晶基板の測定値と太陽電池の変換効率との相関を得にくく、セル化試験に時間と費用がかかるため、ウェハ品質のばらつきや開発効率の低下が課題だった。

どう動くか

四探針抵抗率測定を基礎に、試料に応じて印加電流を変えながら抵抗率プロファイルを取得・解析する。表面の汚染や加工損傷だけでなく、内部の欠陥や不純物の影響も反映し、表面品質を主に示すα値と内部品質を主に示すβ値などで評価する。会社と大学は、太陽電池用Si基板では1枚10秒の測定例を公表している。

できるようになること

ウェハ段階で品質を評価できれば、セル化前の選別や結晶・加工工程へのフィードバックが可能になる。大学は、太陽電池製造の高効率化・低コスト化・高品質化に貢献すると説明し、会社は半導体材料の品質改善や開発効率向上への活用を掲げている。

技術の出自:東北大学 金属材料研究所の半導体結晶基板評価に関する研究成果。 出典1 出典2 出典3

使われる場面

  • 太陽電池用シリコンウェハの品質評価
  • 半導体ウェハの結晶品質評価
  • SiC・GaN・Ga2O3など化合物半導体ウェハの開発・製造時の評価
  • ウェハの出荷・仕入れ検査
  • 結晶成長・スライス・研磨など製造工程の改善

優位性の主張

会社の主張
四探針抵抗率測定法に新たな理論を統合し、可変電流による抵抗率プロファイルからウェハ表面と内部の品質を評価できると説明している。 出典
大学の発表
太陽電池用Si基板について、1枚10秒で変換効率と相関する高精度な評価ができると公表。比較条件として、従来のμ-PCD法は約30分と記載している。 出典
会社の主張
光学検査では捉えにくい結晶品質を電気的に検査でき、SiC、GaN、Ga2O3などのウェハを対象にした受託測定を提供すると説明している。 出典
第三者の評価
東北大学発ベンチャーがHS-CMR法によるSi基板測定装置を製造・販売すると紹介している。記事の内容は大学発表に基づく。 出典

製品・サービス

販売中
VWECER-2000(スポット型)

ウェハをプローブ接触で測定し、HS-CMR法により表面・内部の品質を評価するスポット型装置。 出典

半導体ウェハ・結晶の製造会社、開発機関など
販売中
インライン型全数検査装置

量産ラインに接続し、ウェハの全数検査に対応するインライン型装置。会社は受注生産と説明している。 出典

半導体ウェハの量産製造会社
販売中
HS-CMR法によるウェハ受託測定サービス

顧客から預かった半導体ウェハの結晶品質を測定し、α値・β値や分布マッピングなどを提供する。 出典

SiC、GaN、Ga2O3などの半導体ウェハを開発・製造する企業や研究機関

これまでの歩み 新しい順

2022-05
助成
小規模事業者持続化補助金<一般型> 出典
2021-08
資金調達
金額は非公表。日本材料技研株式会社 出典
2021-08
資本提携
日本材料技研株式会社:第三者割当増資を引き受け、持分法適用関連会社化。 出典
2017-10
資金調達
創業時出資。1.24億円。東北大学ベンチャーパートナーズ株式会社 出典

提携先・顧客

資本提携
日本材料技研株式会社 第三者割当増資を引き受け、持分法適用関連会社化。 出典

特許

公開情報では確認できていない。

会社の規模

資本金7,300万円 出典
大学との関係研究成果ベンチャー
公式サイトpsts.jp

大学との関係

大学との関係
東北大学 東北大学金属材料研究所の研究成果を事業化した大学発ベンチャーとして紹介されている。 出典
大学の施設
東北大学 東北大学連携ビジネスインキュベータ(T-Biz)で事業を展開していたことが大学資料に記載されている。 出典
大学の出資
東北大学 2017年の大学資料では、東北大学ベンチャーパートナーズが出資者として掲載されている。後年の現行株主構成は確認できなかった。 出典

出資者(公開情報で確認できた2社)

事業会社(CVCを含む) 1大学系(大学VC・大学) 1

会社や出資者の発表から確認した。出資者の種類は、AIが社名から付けたもの。個人の株主は載せていない。*は、出典のページで社名を機械的に照合できなかったもの。

調査日:2026-10-03
このページの出典:10件
法人番号:8370001042113
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