低温プラズマでナノグラフェン膜や半導体材料を作る
低温プラズマでナノグラフェンや半導体材料を作製する技術と、プラズマ中のラジカルを発生・計測する装置を開発。
NU-Rei株式会社 名古屋大学発 ／ 愛知県 名古屋市東区 ／ 2013年設立
研究発の技術 低温プラズマ ナノグラフェン リチウムイオン電池 ラジカル源 ラジカル計測 真空紫外吸収分光
実用化の段階
研究実証販売
プラズマ関連装置を製品として掲載し、研究開発用途向けβ-Ga₂O₃エピウェハは2026年6月に販売開始を公表している一方、電池はJAXAの開発事業開始段階。
5製品
3提携・顧客
6特許
2出資者
しくみ
解こうとしている課題
電池の容量向上に使われてきたグラファイト負極の性能限界や調達課題、半導体材料の高品質・高速成長、プラズマ工程でラジカル量を把握しにくい課題に取り組む。
どう動くか
プラズマで原料を反応させ、リチウムイオン電池の負極に使うナノグラフェン膜や、半導体成膜に用いるラジカルを生成する。電池では従来のグラファイト負極をナノグラフェンに置き換える。装置事業では真空紫外吸収分光により水素・窒素・酸素ラジカルの密度を測り、製造プロセスへ反映する。名古屋大学との共同研究では酸素ラジカル源を使った酸化ガリウム成長も進める。
できるようになること
同社・名古屋大学・JAXAの説明では、ナノグラフェン負極により高容量・軽量な電池の開発を目指す。JAXA採択事業は小型衛星向け電池の重量を従来比50％にする目標を掲げる。酸化ガリウム成長技術はパワー半導体の材料プロセス整備に資するとされる。
技術の出自：名古屋大学 低温プラズマ科学研究センター、大学院工学研究科。ナノグラフェン二次電池および低温プラズマ・半導体材料成長の研究。 出典1 出典2 出典3 出典4 出典5
使われる場面
- リチウムイオン電池・蓄電デバイス
- 小型衛星・ロケット用電源
- 半導体・パワーデバイス材料の成膜
- プラズマ工程のラジカル計測・制御
- 表面処理・薄膜作製
- 酸化ガリウムパワー半導体の研究開発
優位性の主張
製品・サービス
これまでの歩み 新しい順
提携先・顧客
共同開発
国立大学法人東海国立大学機構 名古屋大学 低温プラズマ科学研究センターとナノグラフェン電池を共同開発。半導体材料成長でも連携。 出典
実証
国立研究開発法人宇宙航空研究開発機構（JAXA） 衛星用軽量リチウムイオン電池の開発が宇宙戦略基金に採択され、事業を開始。 出典
特許
主な分野蓄電デバイス用電極・二次電池、電池充放電方法・装置、プラズマCVD・炭素ナノ材料、プラズマ処理水による農作物・魚類の成長促進
海外出願True
蓄電デバイス用電極、二次電池、および、蓄電デバイス用電極の製造方法（JP7716689B2、WO2024024753A1） NU-Rei株式会社、東海国立大学機構 ／ 日本登録（Google Patents掲載上Active）。WO公開。 出典
蓄電デバイス用電極、二次電池、および、蓄電デバイス用電極の製造方法（JP7675352B2、公開番号JP2024095896A） NU-Rei株式会社、東海国立大学機構 ／ 日本登録公報あり。 出典
二次電池の充電方法および二次電池の充電装置（JP2024054791A） NU-Rei株式会社、東海国立大学機構 ／ 公開。登録状況は本調査で未確認。 出典
Plasma CVD device and method for preparing carbon nano-material（WO2024224845A1） NU-Rei株式会社、東海国立大学機構 ／ WO公開。Google Patents掲載上Ceased。 出典
蓄電デバイス（WO2025258700A1） NU-Rei株式会社、東海国立大学機構 ／ WO公開・審査中。 出典
成長促進水溶液とその製造装置並びに農作物および魚類の生産方法（WO2018088559A1） NU-Rei株式会社、名古屋大学、片桐エンジニアリング株式会社 ／ WO出願はCeasedとの表示。日本登録公報JP7085735B2あり。 出典
会社の規模
大学との関係
出資者（公開情報で確認できた2社）
株式会社東海理化株式会社フューテックファーネス
事業会社（CVCを含む） 2
会社や出資者の発表から確認した。出資者の種類は、AIが社名から付けたもの。個人の株主は載せていない。＊は、出典のページで社名を機械的に照合できなかったもの。