小型アンテナを並べたプラズマで、大面積の薄膜を作る
低インダクタンスアンテナ（LIA）を使い、高密度で低ダメージなプラズマを大面積に生成する技術。プラズマ装置や薄膜形成プロセスに用いる。
株式会社イー・エム・ディー 滋賀県 野洲市
研究発の技術 低インダクタンスアンテナ（LIA） 誘導結合プラズマ（ICP） プラズマ処理 薄膜成膜 スパッタリング 表面処理
買収・子会社化 公式沿革は2012年9月にSCREENグループ入りしたと記し、SCREENの公式資料は同社がSCREENファインテックソリューションズ傘下に再編されたと確認している。
実用化の段階
研究実証販売
会社は研究用システムを販売中と案内し、JSTは大型基板対応LIAシステムの成果が建材向け表面処理装置のプラズマ源として事業化済みと報告している。
6製品
5提携・顧客
5特許
2出資者
しくみ
解こうとしている課題
従来のプラズマ源では、大型化に伴うプラズマの不均一化やアンテナ電圧の増大、基材へのダメージが課題となる。大面積基材の均一処理や低温成膜を可能にすることを目指す。
どう動くか
誘電体で覆った小型アンテナを複数配置し、高周波電流を流して誘導結合プラズマを作る。アンテナのインダクタンスを抑えて電位を低く保ち、基材へのダメージを抑える。複数のアンテナを個別に制御できるため、大面積化やプラズマ分布の調整にも対応する。会社は、従来方式に対して高密度・低ダメージ・大面積化を特長としている。
できるようになること
会社は、薄膜太陽電池の効率向上、電子機器の軽量化・高機能化、大型ディスプレーの製造コスト低減などへの応用を挙げている。JSTは、建材向け大型基板表面処理装置のプラズマ源として事業化が始まったと報告している。
技術の出自：大阪大学大学院工学研究科、接合科学研究所のプラズマ・表界面制御分野。会社は大阪大学発ベンチャーと説明している。 出典1 出典2 出典3 出典4
使われる場面
- 半導体・電子デバイスの薄膜形成、表面処理
- 液晶・有機EL・シートディスプレー向け薄膜形成
- 薄膜太陽電池の成膜
- 建材向け大型基板の表面処理
- 工具・金型・フィルムの表面処理
- ポリマー材料のCVD・エッチング
- 酸化物・窒化物薄膜の低温・大面積成膜
優位性の主張
製品・サービス
これまでの歩み 新しい順
提携先・顧客
提携
科学技術振興機構（JST） プラズマ技術の優先的実施許諾元。A-STEP等で研究開発を支援。 出典
提携
株式会社SCREENホールディングス 会社公式サイトでSCREENグループ企業と説明。グループの研究開発の一部を担う。 出典
販売提携
株式会社SCREENファインテックソリューションズ SCREENの製品ページでLIA方式の真空成膜装置を販売紹介。 出典
特許
Google PatentsのEMD Corp名義検索およびJ-GLOBALの社名検索で代表的な公開公報を確認。表記揺れやファミリー重複があり、全件数は確定していない。
主な分野プラズマ発生・処理装置、低インダクタンスアンテナ・高周波アンテナ、スパッタ装置・薄膜成膜
共同出願人大阪産業技術研究所、日新電機株式会社
海外出願True
JP5747231B2／JPWO2009142016A1「プラズマ発生装置およびプラズマ処理装置」 EMD Corp ／ 登録・Google Patents上で有効 出典
WO2009063631A1「プラズマ処理装置」 EMD Corp ／ 国際公開。Google Patents上のWO権利状態は終了。対応する中国出願あり。 出典
EP4333564B1「Sputtering device」 EMD Corp ／ 2025年に登録 出典
EP3813092A1「Plasma source」 EMD Corp ／ Google Patents上で審査中 出典
US7880392B2「Plasma producing method and apparatus as well as plasma processing apparatus」 EMD Corp ／ 米国登録。共同出願人として記載。 出典
大学との関係
出資者（公開情報で確認できた2社）
株式会社SCREENファインテックソリューションズ大阪中小企業投資育成株式会社＊
事業会社（CVCを含む） 1公的機関・財団 1
会社や出資者の発表から確認した。出資者の種類は、AIが社名から付けたもの。個人の株主は載せていない。＊は、出典のページで社名を機械的に照合できなかったもの。